Paris, mai 2017

NAFEMS France organise un séminaire sur le thème : « L’Optimisation par la Simulation » qui se déroulera le 30 mai 2017 à Paris. 

La simulation numérique incontournable pour optimiser les produits et les processus dès les phases amont du développement ?

Selon Yves Tourbier, qui préside cet événement NAFEMS et expert « Optimisation et aide à la décision » chez Renault, l’optimisation est devenue incontournable dans les processus de conception. On l’a vu apparaitre et prospérer dans tous les domaines de la physique et à tous les jalons des projets. Les méthodes de conception expliquent que la place de l’optimisation est à l’amont, car elle permet de prendre les bonnes décisions au plus tôt. On constate qu’elle est également utilisée en dimensionnement et pour recaler une définition technique sur ses objectifs tout au long du planning projet. Décider avec la meilleure solution, le meilleur compromis, est plus coûteux sur le moment mais supprime des étapes ultérieures et des boucles. L’optimisation accompagne l’innovation, les matériaux composites en donnent une bonne illustration : leur coût est tellement élevé qu’ils ne peuvent être compétitifs que si on économise la matière, en plus de proposer des formes nouvelles et permettre le regroupement de fonctions…

Cependant l’optimisation ne coule pas de source, elle engendre une grosse activité de recherche et remet en cause les processus, ce qui freine son déploiement. Les principaux thèmes abordés lors de la journée : optimisation topologique, réduction des modèles pour l’optimisation des structures, optimisation multi-objectifs, optimisation appliquée à la fabrication additive et aux pièces en composites, optimisation sous incertitudes (Structures, CFD, Acoustique…).

Les intervenants : le Président Yves Tourbier (Renault) et MM. S. Grihon (Airbus), B. Guillaume (PSA), M. Charrier (Renault), A. Bedogin et A. Piccaglia (FCA), L. Dastugue (Intes), J. Pasquiet et E. Charle (Groupe Safran), F. Chinesta (EC Nantes), Pr. P. Duysinx (U. de Liège), M. Bruyneel (Gdtech), D.Espinassou (CETIM), F-X. Irissari et F. Poirion (ONERA) et B. Eck (Faurecia).

Agenda détaillé & Inscription

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